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半導(dǎo)體在生產(chǎn)或者清洗時，需要使用到水，普通的水中常常含有微生物、金屬離子等雜質(zhì)，這些雜質(zhì)會對半導(dǎo)體造成一定的影響，為了能夠去除這些雜質(zhì)，達(dá)到處理半導(dǎo)體的目的，半導(dǎo)體制造商會使用到超純水設(shè)備，超純水設(shè)備能夠有效的去除水中的雜質(zhì)，同時提供水的電阻率，是目前半導(dǎo)體中最受歡迎的一款設(shè)備。

半導(dǎo)體超純水設(shè)備產(chǎn)水標(biāo)準(zhǔn)：
半導(dǎo)體對水質(zhì)的要求非常高，水質(zhì)不能達(dá)到要求，就會對半導(dǎo)體的性能造成影響，所以半導(dǎo)體超純水設(shè)備的產(chǎn)水標(biāo)準(zhǔn)非常的嚴(yán)格，需要完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、中國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)，如果不能滿足，就不能直接使用在半導(dǎo)體中。

半導(dǎo)體超純水設(shè)備的工藝：
半導(dǎo)體超純水設(shè)備的工藝流程主要有EDI超純水設(shè)備、二級RO反滲透、離子交換樹脂這三種：

EDI超純水設(shè)備：

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點

EDI模塊抗污染性較差，一般在EDI系統(tǒng)的前面加入過濾器、軟水機(jī)、反滲透等設(shè)備，讓EDI模塊的進(jìn)水能夠符合要求，這樣EDI模塊的產(chǎn)水一般能夠達(dá)到15-18兆歐左右。

二級ro反滲透設(shè)備：

原水加壓泵－多介質(zhì)過濾器－活性炭過濾器－軟水器－保安過濾器－第一級反滲透機(jī)－第二級反滲透機(jī)－儲水罐－純水輸送泵－用水點

二級反滲透設(shè)備則是在反滲透設(shè)備的基礎(chǔ)上增加了一道反滲透過濾程序。使用在半導(dǎo)體中的產(chǎn)水，使用一級反滲透是無法達(dá)到要求的，所以會在一級反滲透后面再加一道反滲透，使產(chǎn)水能夠達(dá)到半導(dǎo)體用水要求。

離子交換樹脂：

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點

離子交換樹脂設(shè)備主要是通過離子吸附的原理對水進(jìn)行處理，先使用陽離子交換樹脂將水中的陽離子進(jìn)行吸附，再通過陰離子交換樹脂吸附陰離子，最后使用混床拋光樹脂，提高產(chǎn)水的水質(zhì)、電阻率，使產(chǎn)水能夠滿足半導(dǎo)體用水的要求。

注意：這三種處理工藝可以根據(jù)用戶的進(jìn)水條件、產(chǎn)水要求進(jìn)行適當(dāng)?shù)恼{(diào)整，如果有這方面的需求，可以咨詢我們的客服了解詳情。

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半導(dǎo)體專用超純水設(shè)備工藝有哪些？